半导体光刻工艺

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光刻工艺半导体制作工艺过程中,光刻工艺是一个非常重要的工序。

利用光刻模拟软件具有以下优势:

1) 加快工艺发展速度

最大限度提高半导体制造商对现有曝光机的利用率

实现对光刻工艺战略的快速定义并认证,从而缩短进入市场的时间

2) 缩短量产化进程

对光刻结果提供可靠的预测

能够对光刻过程,结构设计及掩模进行校正

3) 提高生产率和增加收益

减少暇疵提高效益

缩小IC设计与成品之间的差距


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